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恒奧德儀器智能程控勻膠機智能程控勻膠機操作流程

更新時間:2025-11-27點擊次數:11

恒奧德儀器智能程控勻膠機智能程控勻膠機操作流程

 

程控勻膠機是一種通過編程控制實現光刻膠均勻涂覆的設備,其核心原理是利用離心力將膠液均勻分布在基片表面。以下是其操作使用原理的詳細說明:

 

核心工作原理

離心涂覆:基片固定后高速旋轉,膠液在離心力作用下均勻鋪展,厚度由轉速和膠液黏度決定 。

參數控制:通過編程設定轉速(100-9900/分)、加速度、烘烤溫度等工藝參數,實現自動化操作 。

操作流程

基片固定

通過真空吸附將基片居中固定,確保旋轉穩定性 。

滴膠

靜態或動態滴膠:膠液滴在基片中心或邊緣,覆蓋直徑約50%

低速預旋轉

500/分左右低速旋轉,使膠液初步鋪展 。

高速旋轉

加速至1500-6000/分,離心力甩開多余膠液,形成均勻薄膜 。

刮邊處理

上下刮邊去除基片邊緣殘留膠液,避免污染 。

烘烤固化

按預設溫度(如隧道式遠紅外加熱)烘干,排除溶劑并固化涂層 。

關鍵控制參數

轉速穩定性:直接影響膜厚均勻性,誤差需控制在±10/分內 。

加速度調節:需匹配膠液黏度,確保甩膠效果 。

真空吸附:防止基片脫落(“飛片”),部分機型聯動控制 。

應用場景

半導體封裝:晶片涂膠、貼片元件封裝等 。

光學鍍膜:反射膜、增透膜等 。

注意事項

環境要求:濕度40%-60%,避免膠液黏附力下降 。

安全防護:操作時需關閉上蓋,防止飛片或膠液吸入管道

 

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